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| 원리 및 특징 | ||||||||
| 감광막에 자외선을 직접 조사하여 반응하게 하는 시스템으로서 다양한
기판위에 마스크 모양을 1:1 전사. 마스크와 기판의 긴밀한 접촉을 통하여 최소선폭 1μm까지 구현이 가능하며, 박막 증착 및 식각 공정 을 반복적으로 수행함에 있어, 고배율의 듀얼 현미경을 통하여 마스크 와 정렬이 가능 |
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| 주요 사양 | ||||||||
| 1. 샘플사이즈 : ~ 6 inch
2. 마스크 사이즈 : 7 x 7 inch 3. 듀얼 CCD 줌 현미경, LCD(19inch) 모니터 |
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| 활용 분야 | ||||||||
| - 전자소자/광소자/나노소자 제작
- 포토리소그래피 - 광감응성 소재 응용 |
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